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等離子清洗機進行刻蝕操作時有哪些表現?

發布日期:2020-07-01 00:00 來源:http://www.kfada.com 點擊:

等離子清洗機進行刻蝕操作時有哪些表現?


  等離子清洗機進行去膠操作十分的簡單,而且效率高,清洗后的表面潔凈光潔、沒有任何的劃痕、成本低、環保。電介質等離子體清洗機在進行等離子刻蝕時,一般會被應用在電容耦合等離子體平行板反應器上,在平行板反應器中,反應等離子刻蝕腔體所選用的是陰極面積小,陽極面積大的不對稱規劃,而需要被刻蝕的物件則是被放置到面積較小的電極之上。
  在進行等離子刻蝕操作時,其射頻電源所產生的熱運動會使質量小、運動速度快的帶負電自由電子很快抵達陰極,而正離子則是由于質量大、速度慢而很難在同一時刻到達陰極,然后就會在陰極附近構成帶負電的鞘層,正離子在這個鞘層的加快之下,就會筆直的轟擊在硅片的表面,然后使得表面的化學反應加快,而且會使得反應生成物脫離,因而其刻蝕速度極快,離子的轟擊也會使各向異性刻蝕得以實現。
  等離子清洗操作方法:將待清洗片刺進石英舟并平行氣流方向,推入真空室兩電極間,抽真空到1.3Pa,通入恰當氧氣,堅持真空室壓力在1.3-13Pa,加高頻功率,在電極間產生淡紫色輝光放電,通過調度功率、流量等技術參數,可得不一樣去膠速率,當膠膜去凈時,輝光不見。
  等離子清洗機去膠影響要素:
  1.頻率選擇:頻率越高,氧越易電離構成等離子體。頻率太高,以致電子振幅比其平均自由程還短,則電子與氣體分子磕碰概率反而減少,使電離率下降。
  2.功率影響:關于必定量的氣體,功率大,等離子體中的的活性粒子密度也大,去膠速度也快;但當功率增大到必定值,反響所能耗費的活性離子抵達豐滿,功率再大,去膠速度則無顯著增加。由于功率大,基片溫度高,所以應根據技術需求調度功率。
  3.真空度的選擇:恰當進步真空度,可使電子運動的平均自由程變大,因而從電場取得的能量就大,有利電離。別的當氧氣流量必守時,真空度越高,則氧的相對份額就大,產生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過高,活性粒子濃度反而會減小。
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