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先進的環保清洗技術-環保清洗線

發布日期:2020-06-04 00:00 來源:http://www.kfada.com 點擊:

先進的環保清洗技術-環保清洗線


    基于水加溶劑的傳統清洗辦法,盡管看起來廉價,但需求以消耗很多的能源。單純的溶劑清洗相對更經濟,更具有吸引力,清洗進程的低表面張力易于潤濕和浸透。蒸汽脫脂和氣相枯燥辦法所要求的溶劑沸點低,這就下降了清洗進程對溫度的要求。但是,大多數溶劑是易燃。含有有毒或致癌物質的,因而存在潛在的安全隱患和運用成本,如安全培訓費,職工生病的醫療費、廢棄物的分析和安全排放等諸多問題。環保清洗線的出現為完美的處理了這些存在的問題。
    使用慣例技術清洗后,都會在表面留下一層難以去除的痕跡和固執的剩余污染層,在這種情況下,就需求選用一種更優秀的清洗手法。精潔清洗的意圖是為了去除表面終究的幾個原子層厚的污染,特別是在表面留下的有機碳氫化合物層和化學吸附層。這種精清洗對后續黏合劑的運用尤為重要,因為后續黏合需求一個極為潔凈的表面,即使僅一個原子層厚的有機污染層都可能會下降黏合效果。許多制造商現已發現,只用溶劑和酸來進行大批量清除表面薄膜是不可行的。因而,挑選精細清洗,在化學和物理效果之間找到一個平衡點,這既是一種火燎的需求,也符合經濟價值的要求。
在許多工作中,CFC 被用來無損傷、無殘留地去除材猜中的碳氫油類、油脂和其他污染物。但是有些氯氟烴在大氣中吸收紫外線后會發生離解,開釋氟原子,然后損壞地球免受太陽紫外線輻射的大氣臭氧層。另一種清潔劑-全氟碳化物(PFC)能夠在平流層中逗留5000年之久。這些氣體對全球變暖的影響比二氧化碳更大,原因是這些氣體的壽命長、振蕩 模式能量低;此外,這些氣領會開釋出F2、CnF2n+2和HF以及在清洗進程中很難去除的對健康有害的其他自在基團。
在過去的50年中,印刷等表面處理工作在繼續的政策壓力之下,現已在不斷地減少溶劑的運用以及相關的工藝步驟。在半導體制造領域中,濕法清洗需求消耗很多的水,出產一片直徑為200mm的晶片需求消耗2000多加侖(1加侖=3.785升)的超純水,一般工廠每天的產能為1500片,這樣每天總的超純水用量多達300萬加侖。若出產相同數量的直徑為300mm的晶片,一天將消耗約500萬加侖的超純水,而這個用水量簡直相當于一個中小城市一天的用水量。
    傳統清洗技術中所運用的化學試劑會對環境構成很大的損害,而我們公司研宣布的新式環保清洗線,是一種智能環保復合型真空清洗技術設備。共同的多級排氣收回系統,排出空氣更潔凈,大大下降溶劑損耗量。溶劑選用的是通過ROSH標準的環保清洗劑,綠色出產,零排放。傳統的清洗辦法能耗高,不符合國家的產能政策。而我們研制的環保清洗線,能做到符合國家產能政策,排放少,循環使用,能耗下降,重要的是我們的產品是不用水的。關于那些排水多的企業來說,無疑是一個福音。在滿意抵達產品潔凈度的一起還能處理企業實踐存在的環保問題。
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